光氧催化除臭設備適用范圍有哪些
未知, 2020-12-22 11:15, 次瀏覽
光氧催化除臭設備適用范圍有哪些
光氧催化除臭設備根本原理
光解：設備安頓有紫外光發(fā)作器陣列，光解設備異味高分子物質在劇烈的紫外線照耀下因分子鏈開裂而分化。
氧化：少數(shù)的氧也在紫外光照耀的催化下反響生成微量臭氧。
催化：在***定波長紫外光及催化陣列觸媒的催化作用下，使很難很的異味分子也能快速分化;并且發(fā)作羥基自在基、超氧陰離子自在基等強氧化劑，***幅前進凈化功率。
(二)技能關鍵
1、運用了***功率真空紫外光光源。
2、運用了***定規(guī)劃多波段紫外光。
3、不斷開發(fā)新式催化技能，發(fā)作多種羥基自在基，***幅前進氧化功率。
4、***研制選用新式霧化增濕設備，確保濕度與溫度的操控，供給更佳的除味處理條件。
5、自創(chuàng)組合式的***氧化工藝，確保對光解后的小分子集團能有用氧化，終究生成水(H2O)、二氧化碳(CO2)等小分子物質，無二次污染殘留物。
