光氧催化除臭設(shè)備適用范圍有哪些
未知, 2020-12-22 11:15, 次瀏覽
光氧催化除臭設(shè)備適用范圍有哪些
光氧催化除臭設(shè)備根本原理
光解：設(shè)備安頓有紫外光發(fā)作器陣列，光解設(shè)備異味高分子物質(zhì)在劇烈的紫外線照耀下因分子鏈開裂而分化。
氧化：少數(shù)的氧也在紫外光照耀的催化下反響生成微量臭氧。
催化：在***定波長紫外光及催化陣列觸媒的催化作用下，使很難很的異味分子也能快速分化;并且發(fā)作羥基自在基、超氧陰離子自在基等強(qiáng)氧化劑，***幅前進(jìn)凈化功率。
(二)技能關(guān)鍵
1、運用了***功率真空紫外光光源。
2、運用了***定規(guī)劃多波段紫外光。
3、不斷開發(fā)新式催化技能，發(fā)作多種羥基自在基，***幅前進(jìn)氧化功率。
4、***研制選用新式霧化增濕設(shè)備，確保濕度與溫度的操控，供給更佳的除味處理條件。
5、自創(chuàng)組合式的***氧化工藝，確保對光解后的小分子集團(tuán)能有用氧化，終究生成水(H2O)、二氧化碳(CO2)等小分子物質(zhì)，無二次污染殘留物。
